OBLF直读光谱仪VeOS39
发表时间:2021-07-06 17:32 描述VeOS 火花发射光谱仪允许对所有常见金属材料进行多功能、灵活和快速的材料分析。VeOS 使用专为发射光谱而开发的最先进的检测器技术。分析服务范围还包括对短波元素(如氮和尽可能低的碳含量)的精确分析。 主要特征
更多的信息 OBLF 的 VeOS 是第一款具有基于半导体的检测器系统的固定式火花光谱仪,其分析性能 - 包括实验室光谱仪所需的光谱分辨率 - 丝毫不逊色于已建立的基于光电倍增管的设备。专为火花发射光谱开发的光电探测器首次亮相在 130 到 700 nm 的整个所需波长范围内具有出色的性能。光敏探测器的设计特别适合发射光谱的需要。它们的特点是光敏表面比同类系统大两个数量级。这是第一次有可能将光谱灵敏度和光谱分辨率的最佳组合与分析任务的最大可能灵活性结合在具有众所周知的 OBLF 质量的最新设计设备中。 VeOS 还采用全新的、用户友好的外壳。由于其紧凑、坚固的结构和易用性,它非常适合用于生产设施、进货和材料控制以及具有广泛分析任务的测试实验室。在不干扰系统的情况下,分析任务的后续扩展很容易且可能。 为了确保不受安装地点外部条件的影响,探测器和专门开发的读出系统安装在温度稳定的真空光学元件中。与所有 OBLF 光谱仪一样,VeOS 使用免维护的数字GDS III激发,可用于产生针对各自应用优化的火花放电,并结合较短的分析时间。优化后的火花台采用 OBLF 专利的自动脉冲清洁技术,因此可实现极长的维护周期和低运营成本。新的基于 Windows® 的光谱仪软件 OBLFWin 允许设备的简单操作并启用火花光谱的所有常用设置。 技术规格 光学
真空系统
火花激发
火花支架
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